簡介

　　一種射線式分析儀器,是X射線分析儀器的一種常用形式。X射線熒光光譜儀能分析原子序數(shù) 12～92的所有元素，選擇性高，分析微量組分時受基體的影響小，在地質(zhì)、采礦和冶金等部門應用很廣。

　　X射線是用高速電子轟擊原子的內(nèi)層電子,使之處于高激發(fā)狀態(tài)，同時外層的電子躍遷到缺少電子的內(nèi)層軌道。在此過程中會伴隨著以電磁波形式釋放的能量。這種釋放能量的電磁波能量大，波長小，肉眼不可見，稱之為X射線。

　　如果用高速電子激發(fā)產(chǎn)生的X射線又作為激發(fā)源(可稱之為一次X射線)去轟擊別的原子的內(nèi)層電子，同樣可產(chǎn)生X射線，只是這種X射線的能量較一次X射線低,波長也較長,這種射線稱為二次X射線或X射線熒光、熒光X射線。 X射線熒光的波長是以受激物質(zhì)（待測物質(zhì)）的原子序數(shù)為特征的，原子序數(shù)越大的物質(zhì)波長越短。各種不同的元素都有本身的特征X射線熒光波長，這是用X射線熒光原理的X射線熒光光譜儀進行定性分析的依據(jù);而元素受激發(fā)射出來的特征X 射線熒光的強度則取決于該元素的含量，這是定量分析的依據(jù)。

　　X射線熒光光譜儀的主要組成部分是一次X射線源和樣品室、分光晶體和平行光管、檢測器和記錄顯示儀器。一次X射線源用X光管,它產(chǎn)生的一次X射線轟擊樣品表面,使樣品激發(fā)出二次X射線。二次X射線經(jīng)平行光管變成一束平行光以后，投射到與平行光束呈夾角 θ的分光晶體晶面上。射線在分光晶體面上的反射角與平行光束的夾角為2θ。分光晶體在分析過程中是回轉(zhuǎn)的，即θ是連續(xù)變化的，θ的變化會使反射光的波長隨之變化，故2θ的具體值是定性分析的依據(jù)。這種變化波長的反射線投射到與分光晶體聯(lián)動的檢測器上，檢測器便輸出一個與平面分光晶體反射線強度成比例的信號，它是定量分析的依據(jù)。記錄顯示儀表的記錄紙移動的距離與2θ有關，所以記錄下來的曲線就是熒光光譜圖，其橫坐標是波長，縱坐標是光強。分析光譜圖就可以得到定性分析和定量分析結(jié)果。

主要用途

　　儀器是較新型X射線熒光光譜儀，具有重現(xiàn)性好，測量速度快，靈敏度高的特點。能分析F(9)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業(yè)樣品。無標半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結(jié)果，結(jié)果準確度對某些樣品可以接近定量水平，分析時間短。薄膜分析軟件FP-MULT1能作鍍層分析，薄膜分析。測量樣品的最大尺寸要求為直徑51mm,高40mm.

儀器類別

　/儀器儀表/成份分析儀器/熒光光度計

指標信息

　　1.發(fā)射源是Rh靶X光管，最大電流125mA，電壓60kV，最大功率3kW2.儀器在真空條件下工作，真空度<13pascals3.5塊分析晶體，可以分析元素周期表F～U之間所有元素，含量范圍是ppm～100%4.分析軟件是Philips公司(現(xiàn)為PANalytical)最新版軟件，既可作半定量，也可定量分析。精密度：在計算率N=1483870時，RSD=0.08%穩(wěn)定性計算率Nmax=6134524,Nmin=6115920,N平均=6125704,相對誤差為0.03%

附件信息

　　循環(huán)水致冷單元，計算機P10氣體瓶空氣壓縮機

分析對象

　　主要有各種磁性材料(NdFeB、SmCo合金、FeTbDy)、鈦鎳記憶合金、混合稀土分量、貴金屬飾品和合金等，以及各種形態(tài)樣品的無標半定量分析，對于均勻的顆粒度較小的粉末或合金，結(jié)果接近于定量分析的準確度。X熒光分析快速，某些樣品當天就可以得到分析結(jié)果。適合課題研究和生產(chǎn)監(jiān)控。

分類

　　波長色散X射線熒光光譜采用晶體或人工擬晶體根據(jù)Bragg定律將不同能量的譜線分開，然后進行測量。波長色散X射線熒光光譜一般采用X射線管作激發(fā)源，可分為順序式(或稱單道式或掃描式)、同時式(或稱多道式)譜儀、和順序式與同時式相結(jié)合的譜儀三種類型。順序式通過掃描方法逐個測量元素，因此測量速度通常比同時式慢，適用于科研及多用途的工作。同時式則適用于相對固定組成，對測量速度要求高和批量試樣分析,順序式與同時式相結(jié)合的譜儀結(jié)合了兩者的優(yōu)點。

能量色散X射線熒光光譜

能量色散X射線熒光光譜采用脈沖高度分析器將不同能量的脈沖分開并測量。能量色散X射線熒光光譜儀可分為具有高分辨率的光譜儀，分辨率較低的便攜式光儀，和介于兩者之間的臺式光譜儀。高分辨率光譜儀通常采用液氮冷卻的半導體探測器，如Si(Li)和高純鍺探測器等。低分辨便攜式光譜儀常常采用正比計數(shù)器或閃爍計數(shù)器為探測器，它們不需要液氮冷卻。近年來，采用電致冷的半導體探測器，高分辨率譜儀已不用液氮冷卻。同步輻射光激發(fā)X射線熒光光譜、質(zhì)子激發(fā)X射線熒光光譜、放射性同位素激發(fā)X射線熒光光譜、全反射X射線熒光光譜、微區(qū)X射線熒光光譜等較多采用的是能量色散方式。

非色散譜儀

　　非色散譜儀不是采用將不同能量的譜線分辨開來，而是通過選擇激發(fā)、選擇濾波和選擇探測等方法使測量分析線而排除其他能量譜線的干擾，因此一般只適用于測量一些簡單和組成基本固定的樣品。

全反射X射線熒光

　　如果n1>n2，則介質(zhì)1相對于介質(zhì)2為光密介質(zhì)，介質(zhì)2相對于介質(zhì)1為光疏介質(zhì)。對于X射線，一般固體與空氣相比都是光疏介質(zhì)。所以，如果介質(zhì)1是空氣，那么α1>α2(，即折射線會偏向界面。如果α1足夠小，并使α2=0，此時的掠射角α1稱為臨界角α臨界。當α1<α臨界時，界面就象鏡子一樣將入射線全部反射回介質(zhì)1中，這就是全反射現(xiàn)象。

特點

　　分析的元素范圍廣，從4Be到92U均可測定；熒光X射線譜線簡單，相互干擾少，樣品不必分離，分析方法比較簡便；

　　分析濃度范圍較寬,從常量到微量都可分析。重元素的檢測限可達ppm量級，輕元素稍差；

　　分析樣品不被破壞，分析快速，準確，便于自動化。