使用型態(tài)

XRF 用 X光或其他激發(fā)源照射待分析樣品，樣品中的元素之內層電子被擊出后，造成核外電子的躍遷，在被激發(fā)的電子返回基態(tài)的時候，會放射出特征 X 光；不同的元素會放射出各自的特征 X 光，具有不同的能量或波長特性。探測系統(tǒng)接受這些 X 光，儀器軟件系統(tǒng)將其轉為對應的信號。這一現(xiàn)象廣泛用于元素分析和化學分析，特別是在研究金屬，玻璃，陶瓷和建筑材料，以及在地球化學研究、法醫(yī)學、電子產(chǎn)品進料品管（EU RoHS）和考古學等領域，在某種程度上與原子吸收光譜儀互補，減少工廠附設的品管實驗室之分析人力投入。

X射線熒光的物理原理

當材料暴露在短波長 X 光檢查，或伽瑪射線，其組成原子可能發(fā)生電離，如果原子是暴露于輻射與能源大于它的電離勢，足以驅逐內層軌道的電子，然而這使原子的電子結構不穩(wěn)定，在外軌道的電子會“回補”進入低軌道，以填補遺留下來的洞。在“回補”的過程會釋出多余的能源，光子能量是相等兩個軌道的的能量差異的。因此，物質放射出的輻射，這是原子的能量特性。

X射線熒光光譜法在化學分析

主要使用 X 射線束激發(fā)螢光輻射，第一次是在 1928 年由格洛克爾和施雷伯提出的。到了現(xiàn)在，該方法是用來作為非破壞性分析技術，并作為過程控制的工具，在許多采掘和加工工業(yè)。原則上，最輕的元素，可分析出鈹（z = 4），但由于儀器的局限性和輕元素為低 X 射線產(chǎn)量，它往往是難以量化，所以針對能量分散式的X射線螢光光譜儀可以分析從輕元素的鈉（z = 11）到鈾，而波長分散式則為從從輕元素的硼到鈾。