表面處理探頭—用于表面處理技術(shù)的氧氣測(cè)量探頭

表面處理探頭—用于表面處理技術(shù)的氧氣測(cè)量探頭 
    表面熱處理工藝中，如滲碳、滲氮、探氫共滲或者噴鍍工藝中使用的表面熱處理設(shè)備，起控制參數(shù)常常憑經(jīng)驗(yàn)確定。  
    根據(jù)以往的的實(shí)踐，進(jìn)行金屬部件表面硬化處理熱處理時(shí)噴射到基材表面的材料，其數(shù)量是相當(dāng)可觀的，如果工藝參數(shù)沒(méi)有進(jìn)行優(yōu)化配置，則噴射材料的質(zhì)量就達(dá)不到質(zhì)量要求，結(jié)果生產(chǎn)成本就很高，使用經(jīng)驗(yàn)參數(shù)控制的生產(chǎn)工藝常常依賴于對(duì)這一技術(shù)熟練的操作工人，一旦操作工人發(fā)生更換，則這些參數(shù)又得重新確定，而且，表面處理的工藝參數(shù)還受施工設(shè)備運(yùn)行的影響，并受處理工件不同材質(zhì)的制約。  
    因此，只有使用探測(cè)技術(shù)，客觀的確定氧化、滲碳、滲氮的工作參數(shù)，才有可能形成一種可以重復(fù)生產(chǎn)的表面處理技術(shù)，使產(chǎn)品質(zhì)量始終符合ISO9000質(zhì)量體系認(rèn)證。  
    使用現(xiàn)場(chǎng)探測(cè)器可以降低生產(chǎn)成本，因?yàn)樵谶@種情況下只有保證產(chǎn)品最佳質(zhì)量所需要的那部分工藝氣體導(dǎo)入表面處理過(guò)程。  
    除此以外，探測(cè)器使用對(duì)環(huán)境保護(hù)也具有積極意義，因?yàn)橛行┕に嚉怏w（如甲烷和氨氣）對(duì)環(huán)境具有潛在的有害影響。只有使用在線探測(cè)器，才能把控制過(guò)程所需要的時(shí)間延遲降低到最小程度，另外，氣體成分也不會(huì)由于冷卻作用的影響而發(fā)生改變，而這種情況在虹吸裝置中會(huì)發(fā)生，但與虹吸裝置相反，現(xiàn)場(chǎng)探測(cè)器不需要維護(hù)，通過(guò)對(duì)探測(cè)器進(jìn)行優(yōu)化設(shè)置后，用戶的探測(cè)系統(tǒng)便可長(zhǎng)期使用，無(wú)需校驗(yàn)。  
探頭：  
Q－ probe:　該探測(cè)器確定氧化、滲碳、滲氮工藝中的氧化還原比，滲氮工藝中，Q-probe型探頭測(cè)量不同工作溫度是非均衡條件下在工件上的氮?dú)猓跐B碳工藝中，Q-probe可作為碳傳感器使用，測(cè)定爐氣的氧化還原系數(shù)。  
QE－probe: (化學(xué)平衡中的比例測(cè)定探測(cè)器):這種檢測(cè)器用于滲碳和碳?xì)涔矟B工藝，確定特種催化劑完全分解后的氨氣濃度，當(dāng)這種探測(cè)器和Q-probe配合使用，可確定滲氮工藝特性參數(shù)。
真空探頭: 用于真空系統(tǒng)中　（PVD處理、等離子滲氮工藝）的氧氣濃度。  
型號(hào) 
Q-probe  SS20Q-xxxx
QE-probe   SS20QE-xxxx
真空探頭 XX22H-xxxx  
性能
帶保護(hù)管 
帶保護(hù)管和加熱催化劑 
加熱探頭    (He泄漏率低于  < 10-7 mbar/ s-1)  
應(yīng)用領(lǐng)域
氧化以及還原性氣體 
氧化以及還原性氣體 
氧化以及還原性氣體  
傳感器類型
密封型傳感器 (2) 
密封型傳感器 (2) 
密封型傳感器 (2)  
工作溫度
570...800 °C 氧化環(huán)境      570...1100 °C 還原氣氛中 
570...800 °C 氧化環(huán)境      570...1100 °C 還原氣氛中 
0...800 °C 
探頭長(zhǎng)度
500...1000 mm 
500...1000 mm 
70...200 mm 
尺寸
25 mm 
25 mm 
10 mm 
防護(hù)等級(jí)
IP 56 
IP 56 
IP 56
特別性能
帶沖洗氣體接頭 
需要校驗(yàn) 

型號(hào)	Q-probe SS20Q-xxxx	QE-probe SS20QE-xxxx	真空探頭XX22H-xxxx
圖例
性能	帶保護(hù)管	帶保護(hù)管和加熱催化劑	加熱探頭 (He泄漏率低于  < 10-7 mbar/ s-1)
應(yīng)用領(lǐng)域	氧化以及還原性氣體	氧化以及還原性氣體	氧化以及還原性氣體
傳感器類型	密封型傳感器	密封型傳感器 (2)	密封型傳感器 (2)
工作溫度	570...800 °C 氧化環(huán)境 570...1100 °C 還原氣氛中	570...800°C 氧化環(huán)境570...1100 °C 還原氣氛中	0...800 °C
探頭長(zhǎng)度	500...1000 mm	500...1000 mm	70...200 mm
尺寸	25 mm	25 mm	10 mm
防護(hù)等級(jí)	IP 56	IP 56	IP 56
特別性能	帶沖洗氣體接頭		需要校驗(yàn)

注：(2) 測(cè)量氣體和參考?xì)怏w用密封陶瓷隔離 
應(yīng)用: 
  保護(hù)和混合氣體環(huán)境中的煺火處理 
  滲碳 
  滲氮、氧化滲氮、氨氮共滲、氫氮共滲工藝 
  等離子滲氮 
  PVD處理 
  微波濺射工藝 
  壓力環(huán)境下測(cè)量氧