產(chǎn)品描述:
VIA-MC-UVW紋痕分析對(duì)比系統(tǒng)
系統(tǒng)配置了高清晰度的專業(yè)攝像頭和專業(yè)的紋痕分析對(duì)比軟件,連接電腦,可對(duì)顯微圖像進(jìn)行對(duì)比、測(cè)量、鑒別。
紋痕分析對(duì)比軟件UV-W是一套圖像處理及測(cè)量的應(yīng)用軟件包,主要通過(guò)對(duì)顯微圖像的處理及測(cè)量來(lái)鑒別紋痕。廣泛用于公、檢、法等部門。
產(chǎn)品配置:
1、三目體視顯微鏡PXSVIA-E
2、高級(jí)接口MCL
3、JVC攝像頭C921EC 分辨率540線
4、圖像采集卡V110
5、紋痕分析對(duì)比軟件UV-W(詳見下載中心)
6、聯(lián)想商用電腦、激光打印機(jī)
技術(shù)參數(shù):
1、三目鏡筒:傾斜45°可旋轉(zhuǎn)360°瞳距55-75mm 視度±5°
2、廣角目鏡: 10X/23 mm
3、物鏡:0.65X-6X,變倍比:1:9.2
4、總放大倍數(shù):60X
5、調(diào)焦:粗動(dòng)立座式,升降范圍90mm
6、工作距離:100mm
7、光源:鹵素?zé)? 上下光源可調(diào) 12/20W
選購(gòu)件:
2X物鏡 500元
20X目鏡 500元
二維工作臺(tái) 1000元
偏振片 1200元
環(huán)形光源 240元
LED光源(亮度可調(diào)) 800元
技術(shù)參數(shù):