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TY10離子束設(shè)備300PlusZX21

TY10

離子束設(shè)備300Plus

ZX21
離子束設(shè)備300Plus
訂 貨 號:此產(chǎn)品暫時(shí)無法訂購,您可以繼續(xù)瀏覽我們其他的產(chǎn)品 品    牌:英國牛津 產(chǎn)    地:中國 市 場 價(jià): 折 扣 價(jià): 發(fā)貨周期:現(xiàn)貨或5天內(nèi)
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英國牛津 離子束設(shè)備 - Ionfab 300Plus介紹

Ionfab 300Plus是模塊化的離子束(Ion Beam)刻蝕和沉積系統(tǒng),是用離子束的方法對樣片進(jìn)行刻蝕和濺射沉積,從而達(dá)到高準(zhǔn)確度、高精度的客戶要求。最大直徑8英寸,厚度最高達(dá)8.5mm的多種類型樣片可以被自動(dòng)進(jìn)片系統(tǒng)裝入反應(yīng)室,帶積分中和的15cm離子源使產(chǎn)品的均勻性得到巨大的提高。

Ionfab300Plus被設(shè)計(jì)成一個(gè)模塊化的離子束系統(tǒng),用于離子束刻蝕和離子束鍍膜。

  它已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于各種類型的工藝研究和生產(chǎn),特別在半導(dǎo)體行業(yè)和光學(xué)鍍膜領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。

離子束設(shè)備 Plasmalab Ionfab300Plus 產(chǎn)品介紹  

該設(shè)備可以被配置成:

       國際教育局(惰性氣體離子束蝕刻)
       里伯(反應(yīng)離子束蝕刻)
       CAIBE (化學(xué)輔助離子束蝕刻)
       IBSD (離子束濺射沉積
       IASD (離子輔助濺射沉積) 
       RIBD (反應(yīng)離子束沉積)
英文
IBE(Inert Gas Ion Beam Etch) RIBE(Reactive Ion Beam Etch) CAIBE(Chemically Assisted Ion Beam Etch) IBSD(Ion Beam Sputter Deposition ·IASD(Ion Assisted Sputter Deposition) RIBD(Reactive Ion Beam Deposition)

  
離子束設(shè)備 Plasmalab Ionfab300Plus 典型應(yīng)用:     

      砷化鎵光電
      微波集成電路
      的InP激光光學(xué)
      紅外線探測器
      薄膜磁頭
     SAW (聲表面波)器件
      介電光學(xué)薄膜
      透視鏡
      金剛石涂層
英文 
GaAs Opto-electronics Microwave integrated circuits InP laser optics Infra red detectors Thin film magnetic heads SAW(Surface Acoustic Wave)devices Dielectic optical coatings X-ray mirrors DLC coatings 
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離子束設(shè)備300Plus

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