英國(guó)牛津 等離子設(shè)備 - Plasmalab System100系列產(chǎn)品
Plasmalab System100是當(dāng)今世界上半導(dǎo)體光電子行業(yè)的主流機(jī)型,預(yù)真空鎖(Load Lock)的配置使我們客戶的產(chǎn)品質(zhì)量得到了很大的提高。
該設(shè)備同樣為模塊化設(shè)計(jì),可以根據(jù)客戶的需要配置成ICP模式、PECVD模式和多真空腔模式,同時(shí)載片量也可以根據(jù)需求從一次處理單片2"直到一次處理7片2"。
Plasmalab System100系列 - ICP(高密度等離子體)配置產(chǎn)品介紹
典型應(yīng)用:
InP,GaAs,GaN系列三五簇材料的臺(tái)面及溝槽刻蝕
InP,GaAs系列通孔(Via Hole)刻蝕
深硅刻蝕
厚膜SiO2,SiNx刻蝕
紅外器件應(yīng)用,CMT,InSb系列材料刻蝕
System100系列 - ICP(高密度等離子體)主要配置:
先進(jìn)的基于Windows NT的PC2000控制軟件,工藝全程計(jì)算機(jī)控制,操作簡(jiǎn)捷
ICP專用真空腔設(shè)計(jì)以及200mm真空管路配置,最大限度的發(fā)揮了ICP的功效
根據(jù)具體工藝配置的ICP180或ICP380系統(tǒng),集成了靜電屏蔽裝置,實(shí)現(xiàn)了“True ICP”的功能
不同尺寸的下電極配置,最多可以一批處理7片2"樣片,使小批量生產(chǎn)成為可能;同時(shí)也可以兼顧科研、開發(fā)方面的應(yīng)用
預(yù)真空鎖(Load Lock)的配置完全將有毒及危險(xiǎn)氣體與凈化車間隔離開來(lái),最大限度保證了操作人員的安全
大抽速、防腐蝕真空泵組的配置,保證了設(shè)備的長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)轉(zhuǎn)
System100系列 - ICP(高密度等離子體)選配件:
激光干涉終點(diǎn)控制系統(tǒng)(EPD)可以在實(shí)時(shí)控制刻蝕的深度
干泵配置使設(shè)備維護(hù)更加簡(jiǎn)單