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英國(guó)牛津 等離子設(shè)備 - Plasmalab 800Plus系列產(chǎn)品
Plasmalab 80Plus是我公司專門為大學(xué)及研究機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)的小型化產(chǎn)品，被廣泛的應(yīng)用于各種產(chǎn)品的研發(fā)以及小批量生產(chǎn)。它配置了直接開(kāi)啟式工藝平臺(tái)，可以根據(jù)客戶需要將它配置成RIE（反應(yīng)離子刻蝕）、PE（等離子刻蝕）、PECVD（等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積）或ICP（感應(yīng)耦合等離子高密度刻蝕）等模式，應(yīng)用非常靈活。
Plasmalab 800Plus系列 - Failure Analysis配置（uEtch300系統(tǒng)）產(chǎn)品介紹
典型應(yīng)用：
低傷害聚酰亞胺鈍化蝕刻（體育模式）
低傷害氮化硅鈍化蝕刻（體育模式）
IMD的各向異性刻蝕（刻蝕模式）
各向異性電信蝕刻（刻蝕模式）
各向同性的IMD /電信蝕刻（體育模式）
各向同性多晶硅刻蝕（ PE或刻蝕模式）
800Plus系列 - Failure Analysis配置（uEtch300系統(tǒng)）主要配置：
硬件和工藝全程自動(dòng)化控制的基于Windows NT的PC2000控制軟件，全部硬件和工藝均由計(jì)算機(jī)來(lái)控制，操作非常簡(jiǎn)便 RIE/PE雙模式大工藝真空腔，可以針對(duì)不同刻蝕層靈活選擇刻蝕模式 380mm直徑溫度可以調(diào)節(jié)的下電極，可輕松處理12”樣片 RF繼電器，可以在RIE/PE模式之間靈活切換 13.56MHz，120/1200W的射頻電源以及緊耦合、低損耗的自動(dòng)匹配網(wǎng)絡(luò)(Close-coupled Automatic Matching Network)，更加保證了工藝的重復(fù)性 控制工藝氣體流量及配比的外部Gas Pod，最多可配置6路氣體管路，大大節(jié)約了凈化間的面積 反應(yīng)室真空壓力自動(dòng)控制系統(tǒng)（APC CM Gauge），保證工藝過(guò)程壓力的穩(wěn)定 大抽速防腐蝕機(jī)械泵和分子泵泵組，可以快速的達(dá)到工藝試驗(yàn)所需的真空環(huán)境800Plus系列 - Failure Analysis配置（uEtch300系統(tǒng)）選配件：
干泵配置，使日常維護(hù)變得更為簡(jiǎn)單
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