英國牛津 等離子設備 - Plasmalab 800Plus系列產(chǎn)品
Plasmalab 80Plus是我公司專門為大學及研究機構(gòu)設計的小型化產(chǎn)品,被廣泛的應用于各種產(chǎn)品的研發(fā)以及小批量生產(chǎn)。它配置了直接開啟式工藝平臺,可以根據(jù)客戶需要將它配置成RIE(反應離子刻蝕)、PE(等離子刻蝕)、PECVD(等離子增強型化學氣相沉積)或ICP(感應耦合等離子高密度刻蝕)等模式,應用非常靈活。
Plasmalab 800Plus系列 - RIE(反應離子刻蝕)配置產(chǎn)品介紹
典型應用:
SiO2,SiNx大批量刻蝕800Plus系列 - RIE(反應離子刻蝕)配置主要配置:
硬件和工藝全程自動化控制的基于Windows NT的PC2000控制軟件,全部硬件和工藝均由計算機來控制,操作非常簡便 RIE大型工藝真空腔 380mm或460mm直徑的溫度可以調(diào)節(jié)的下電極,保證了批量生產(chǎn)的需要 13.56MHz,120/1200W的射頻電源以及緊耦合、低損耗的自動匹配網(wǎng)絡(Close-coupled Automatic Matching Network),更加保證了工藝的重復性 控制工藝氣體流量及配比的外部Gas Pod,最多可配置6路氣體管路,大大節(jié)約了凈化間的面積 反應室真空壓力自動控制系統(tǒng)(APC CM Gauge),保證工藝過程壓力的穩(wěn)定 大抽速防腐蝕機械泵和分子泵泵組,最高抽速可達每秒400升,可以快速的達到工藝試驗所需的真空環(huán)境800Plus系列 - RIE(反應離子刻蝕)配置選配件:
干泵配置使維護更為簡單